د انعطاف نظري عنصر یو ډول نظري عنصر دی چې لوړ انعطاف موثریت لري، کوم چې د رڼا څپې د انعطاف تیوري پر بنسټ والړ دی او د کمپیوټر په مرسته ډیزاین او سیمیکمډکټر چپ تولید پروسې کاروي ترڅو د سبسټریټ (یا د دودیز نظري وسیلې سطح) کې د ګام یا دوامداره راحت جوړښت نقاشي وکړي. انعطاف نظري عناصر پتلي، سپک، په اندازې کې کوچني دي، د لوړ انعطاف موثریت، د آزادۍ ډیری ډیزاین درجې، ښه حرارتي ثبات او ځانګړي انعطاف ځانګړتیاوې لري. دوی د ډیری نظري وسیلو مهمې برخې دي. څرنګه چې انعطاف تل د نظري سیسټم د لوړ ریزولوشن محدودیت لامل کیږي، دودیز آپټیکونه تل هڅه کوي چې د 1960 لسیزې پورې د انعطاف اغیزې له امله رامینځته شوي منفي اغیزو څخه مخنیوی وکړي، د انلاګ هولوګرافي او کمپیوټر هولوګرام او همدارنګه د فیز ډیاګرام اختراع او بریالي تولید سره په مفهوم کې لوی بدلون رامینځته شو. په 1970 لسیزه کې، که څه هم د کمپیوټر هولوګرام او فیز ډیاګرام ټیکنالوژي ورځ تر بلې بشپړ کیده، بیا هم د لیدلو وړ او نږدې انفراریډ طول موجونو کې د لوړ انعطاف موثریت سره د هایپرفین جوړښت عناصر جوړول ستونزمن وو، پدې توګه د انعطاف نظري عناصرو عملي غوښتنلیک حد محدودوي. په ۱۹۸۰ لسیزه کې، د متحده ایالاتو د MIT لینکن لابراتوار څخه د WB ویلډکیمپ په مشرۍ یوې څیړنې ډلې لومړی د VLSI تولیداتو لیتوګرافي ټیکنالوژي د ډیفرایکټیو آپټیکل اجزاو تولید ته معرفي کړه، او د "بائنري آپټیکس" مفهوم یې وړاندیز کړ. له هغې وروسته، د پروسس کولو مختلف نوي میتودونه راڅرګندیږي، پشمول د لوړ کیفیت او څو اړخیز ډیفرایکټیو آپټیکل اجزاو تولید. په دې توګه د ډیفرایکټیو آپټیکل عناصرو پراختیا ته ډیره وده ورکړه.
د تفریق وړ نظري عنصر د تفریق موثریت
د تفریق موثریت د تفریق وړ نظري عناصرو او د تفریق وړ نظري عناصرو سره د مخلوط تفریق وړ نظري سیسټمونو ارزولو لپاره یو له مهمو شاخصونو څخه دی. وروسته له دې چې رڼا د تفریق وړ نظري عنصر څخه تیریږي، د تفریق څو حکمونه به رامینځته شي. عموما، یوازې د اصلي تفریق ترتیب رڼا ته پاملرنه کیږي. د نورو تفریق ترتیب رڼا به د اصلي تفریق ترتیب د عکس په الوتکه کې بې لارې رڼا جوړه کړي او د عکس الوتکې برعکس کم کړي. له همدې امله، د تفریق وړ نظري عنصر د تفریق موثریت مستقیم د تفریق وړ نظري عنصر د عکس کیفیت اغیزه کوي.
د تفریق وړ نظري عناصرو پراختیا
د تفریق وړ نظري عنصر او د هغې د انعطاف وړ کنټرول څپې له امله، نظري سیسټم او وسیله د رڼا، کوچني کولو او مدغم کولو لپاره وده کوي. تر 1990 لسیزې پورې، د تفریق وړ نظري عناصرو مطالعه د نظري ساحې مخکښه شوه. دا اجزا په پراخه کچه د لیزر څپې مخ اصلاح، د بیم پروفایل جوړولو، د بیم سرې جنراتور، نظري متقابل اتصال، نظري موازي محاسبه، د سپوږمکۍ نظري اړیکو او داسې نورو کې کارول کیدی شي.
د پوسټ وخت: می-۲۵-۲۰۲۳